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15t/h電子級超純水設備-線路板純水用

15t/h電子級超純水設備-線路板純水用是蘇州市創聯凈化設備有限公司的主要產品之一，公司專業提供工業純水設備、廢水處理設備及工程、中水回用設備及工程，行業口碑良好，信譽良好，收費合理，本頁面為您介紹技術詳情，歡迎查看。

產品詳情介紹

PCB線路板用純水設備統稱線路板清洗設備，PCB板純水設備,PCB純水機，因為線路板生產過程中常用到的電鍍銅，錫，鎳金;化學鍍鎳金;PTH/黑孔;表面處理蝕刻等生產過程都需要用到不同要求的純水，再者線路板生產過程中使用的藥水不同，生產工藝流程的差異，對純水的品質要求也不一樣。

純水設備還可以應用到其它電子產品清洗用水，用途和參考標準：

用途Applications	用水指標Water Indicators	參考標準Reference standard
單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產、半導體芯片相關、半導體設備清洗	電阻率15 ~18.25 MΩ.CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997 美國半導體工業用純水指標
單晶硅半導體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業	電阻率15 ~18.25 MΩ.CM	美國半導體工業用純水指標我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
光學材料清洗用水、電子陶瓷行業用純水、磁性材料用純水	電阻率 10 ~17 MΩ.CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997 美國半導體工業用純水指標
蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產	電阻率5 ~10 MΩ.CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級新材料生產用水、航空新材料生產用水、ITO導電玻璃制造用水、電子級無塵布生產用水	電阻率15 ~18.25 MΩ.CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997 美國半導體工業用純水指標

主要工藝流程和出水指標：

預處理+二級反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM）

預處理+二級反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM）

詳細工藝需根據原水及用水要求設計情況進行設計

純水設備的主要特點

▼結合電子工業用水連續生產的特性，采用了膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作；

▼對于電子行業用水的特性，增強了對水中二氧化硅、重金屬和有機碳的脫除；

▼采用了氮封水箱解決了電子工業用水要求較高，水的儲存容易污染問題；

▼采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產水水質高而穩定；

▼在線水質監測控制，實時監測水質變化，保障水質安全；

▼全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單、安全；

▼切合當地水質的個性化設計，設想周到的堆疊式設計，占地面積小，滿足客戶需求。

▼運行費用及維修成本低，自動運行，可以實現無人化管理操作。

15t/h電子級超純水設備-線路板純水用

產品詳情介紹

純水設備還可以應用到其它電子產品清洗用水，用途和參考標準：

用途Applications	用水指標Water Indicators	參考標準Reference standard
單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產、半導體芯片相關、半導體設備清洗	電阻率15 ~18.25 MΩ.CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997 美國半導體工業用純水指標
單晶硅半導體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業	電阻率15 ~18.25 MΩ.CM	美國半導體工業用純水指標我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
光學材料清洗用水、電子陶瓷行業用純水、磁性材料用純水	電阻率 10 ~17 MΩ.CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997 美國半導體工業用純水指標
蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產	電阻率5 ~10 MΩ.CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級新材料生產用水、航空新材料生產用水、ITO導電玻璃制造用水、電子級無塵布生產用水	電阻率15 ~18.25 MΩ.CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997 美國半導體工業用純水指標