瀏覽器自帶分享功能也很好用哦~高純硅粉、石英坩堝、方舟、單晶硅多晶硅切片，太陽(yáng)能電池板清洗
水質(zhì)指標(biāo);15~18.25兆歐
主要工藝：二級(jí)反滲透+edi+拋光混床工藝
| 太陽(yáng)能電池工業(yè)高純水設(shè)備 |
 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域和指標(biāo)要求參考： |
用途 | 用水指標(biāo) | 參考標(biāo)準(zhǔn) |
高純硅粉生產(chǎn) | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
單晶硅和多晶硅材料生產(chǎn)，切片、清洗用高純水 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
太陽(yáng)能電池片生產(chǎn) | 電阻率18 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃清洗用水 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
石英坩堝，多晶硅方舟 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
| 主要工藝流程和出水指標(biāo)： |
※ 預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM） ※ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM） ※ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM） |
| （詳細(xì)工藝需根據(jù)原水設(shè)計(jì)情況進(jìn)行設(shè)計(jì)） |
| 純水設(shè)備的主要特點(diǎn) ： |
▼結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性，采用了全膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作； ▼對(duì)于電子行業(yè)用水的特性，增強(qiáng)了對(duì)水中二氧化硅、重金屬和有機(jī)碳的脫除； ▼采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高，水的儲(chǔ)存容易污染問(wèn)題； ▼采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長(zhǎng)，運(yùn)行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定； ▼在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化，保障水質(zhì)放心； ▼全自動(dòng)電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡(jiǎn)單； ▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計(jì)，占地面積小，方位滿足需求。 ▼運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低，全自動(dòng)運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)無(wú)人化管理操作。 |
光伏行業(yè)-20t高純水設(shè)備
高純硅粉、石英坩堝、方舟、單晶硅多晶硅切片，太陽(yáng)能電池板清洗
水質(zhì)指標(biāo);15~18.25兆歐
主要工藝：二級(jí)反滲透+edi+拋光混床工藝
| 太陽(yáng)能電池工業(yè)高純水設(shè)備 |
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| 應(yīng)用領(lǐng)域和指標(biāo)要求參考： |
用途 | 用水指標(biāo) | 參考標(biāo)準(zhǔn) |
高純硅粉生產(chǎn) | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
單晶硅和多晶硅材料生產(chǎn)，切片、清洗用高純水 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
太陽(yáng)能電池片生產(chǎn) | 電阻率18 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃清洗用水 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
石英坩堝，多晶硅方舟 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
| 主要工藝流程和出水指標(biāo)： |
※ 預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM） ※ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM） ※ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM） |
| （詳細(xì)工藝需根據(jù)原水設(shè)計(jì)情況進(jìn)行設(shè)計(jì)） |
| 純水設(shè)備的主要特點(diǎn) ： |
▼結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性，采用了全膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作； ▼對(duì)于電子行業(yè)用水的特性，增強(qiáng)了對(duì)水中二氧化硅、重金屬和有機(jī)碳的脫除； ▼采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高，水的儲(chǔ)存容易污染問(wèn)題； ▼采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長(zhǎng)，運(yùn)行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定； ▼在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化，保障水質(zhì)放心； ▼全自動(dòng)電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡(jiǎn)單； ▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計(jì)，占地面積小，方位滿足需求。 ▼運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低，全自動(dòng)運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)無(wú)人化管理操作。 |
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