發(fā)往江西德興XX半導(dǎo)體有限公司20t/h半導(dǎo)體超純水設(shè)備及含氟酸堿廢水處理設(shè)備：

本項(xiàng)目半導(dǎo)體超純水設(shè)備產(chǎn)水流量20t/h，電阻率18兆歐以上，達(dá)到電子級(jí)水一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。

**我們來(lái)聊聊超純水和廢水有哪些技術(shù)要求

1、業(yè)主對(duì)純水技術(shù)參數(shù)要求：

（1）超純水供水量：20t/h；二級(jí)RO出水量：5T/h；

（2）電阻率：≥18.1MΩcm（@25℃）；二級(jí)RO出水電導(dǎo)率：<3μS/cm（@25℃）

（3）總?cè)芙庥袡C(jī)碳TOC：<50ppb；

（4）顆粒度：< 5個(gè)/ml(φ>0.2u)；

（5）SiO2含量：<5ppb；

（6）溫度：22~27℃；

（7）細(xì)菌含量：<50個(gè)/100ml；

（8）壓力：0.3Mpa 

2、廢水技術(shù)參數(shù)要求：

（1）酸堿綜合廢水：包含工藝廢水、公輔廢水、初期雨水等，設(shè)計(jì)總水量 40m3/h，其中含氟廢水水量為8m3/h，研磨廢水水量為8m3/h。

（2）控制標(biāo)準(zhǔn)(按 24h/d 連續(xù)運(yùn)行計(jì)算)：PH＜9，氟離子＜20mg/L，COD＜500mg/L，氨氮＜50mg/L，并滿足《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》GB8978-1996三級(jí)標(biāo)準(zhǔn)；

（3）設(shè)備配套：改造原有廢水站，廢水系統(tǒng)應(yīng)滿足招標(biāo)文件、圖紙設(shè)計(jì)全部?jī)?nèi)容及有關(guān)施工驗(yàn)收規(guī)范的要求，管道系統(tǒng)采用UPVC（含閥門管件）

■半導(dǎo)體行業(yè)：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封測(cè)用水、半導(dǎo)體設(shè)備清洗、電子級(jí)無(wú)塵布無(wú)塵服清洗。

■太陽(yáng)能光伏行業(yè)：?jiǎn)尉Ч琛⒍嗑Ч枨衅逑础⑻?yáng)能電池、石英坩堝、多晶硅方舟、光伏玻璃、高純硅粉

■LCD、LED、OLED生產(chǎn)清洗用水，光學(xué)攝像頭清洗，光學(xué)材料清洗，導(dǎo)電玻璃清洗；

■半導(dǎo)體集成電路板，線路板生產(chǎn)清洗用超純水；

■鋰電池材料（磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜）、蓄電池、鋅錳電池生產(chǎn)用水

■電子級(jí)超純化學(xué)試劑用純水，納米級(jí)電子陶瓷材料純水、**磁性材料用純水、有色金屬、貴金屬冶煉用水、航空新材料生產(chǎn)用水、電容器材料腐蝕化成工藝用水。

     以上是創(chuàng)聯(lián)凈化小李對(duì)高純水設(shè)備及廢水設(shè)備的幾點(diǎn)簡(jiǎn)單介紹，如果需要更詳細(xì)的方案或設(shè)備報(bào)價(jià)，歡迎來(lái)咨詢我們呀。