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用途 | 用水指標 | 參考標準 |
超純材料和超純化學試劑 石英、硅材料生產、加工、提純 電子半導體、集成電路板上用到的化工材料 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 我國電子級水質技術指標 美國半導體工業用純水指標 |
普通化工材料的生產和加工過程所用的溶劑及清洗過程 | 電導率≤10μs/CM | 飲用純凈水標準（GB17324-98） |
主要工藝流程和出水指標：
※ 預處理+1級反滲透（電導率≤10μs/CM）
※ 預處理+二級反滲透（電導率≤2μs/CM）
※ 預處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM）
※ 預處理+1級反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM）
預處理+二級反滲透+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM）
詳細工藝需根據原水設計情況進行設計
純水設備的主要特點
▼采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產水水質高而穩定；
▼在線水質監測控制，實時監測水質變化，保障水質；
▼全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單、方便；
▼切合當地水質的個性化設計，設想周到的堆疊式設計，占地面積小，滿足需求。
▼與傳統工藝相比具有運行成本低的優點（離子交換器的再生周期大幅延長），與工藝相比具有造價低，耗材易得的優點；
▼運行費用及維修成本低，全自動運行，實現無人化管理操作
高純電子化學品用5t/h高純水設備
應用領域和指標要求參考
用途 | 用水指標 | 參考標準 |
超純材料和超純化學試劑 石英、硅材料生產、加工、提純 電子半導體、集成電路板上用到的化工材料 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM | 我國電子級水質技術指標 美國半導體工業用純水指標 |
普通化工材料的生產和加工過程所用的溶劑及清洗過程 | 電導率≤10μs/CM | 飲用純凈水標準（GB17324-98） |
主要工藝流程和出水指標：
※ 預處理+1級反滲透（電導率≤10μs/CM）
※ 預處理+二級反滲透（電導率≤2μs/CM）
※ 預處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM）
※ 預處理+1級反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM）
預處理+二級反滲透+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM）
詳細工藝需根據原水設計情況進行設計
純水設備的主要特點
▼采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產水水質高而穩定；
▼在線水質監測控制，實時監測水質變化，保障水質；
▼全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單、方便；
▼切合當地水質的個性化設計，設想周到的堆疊式設計，占地面積小，滿足需求。
▼與傳統工藝相比具有運行成本低的優點（離子交換器的再生周期大幅延長），與工藝相比具有造價低，耗材易得的優點；
▼運行費用及維修成本低，全自動運行，實現無人化管理操作
蘇ICP備09039299號-1
